Recherche & Développement

Préparer l'avenir

La R&D est une activité majeure pour préparer l'avenir de nos solutions. Nous développons cette activité à la fois en interne, dans le cadre de projets collaboratifs ainsi qu'en participant aux projets de R&D de nos clients.

Ces travaux nous permettent d'enrichir notre offre sur nos produits (A²ECF-SEMI, A²ECF-Industry,...) ainsi que notre expertise pour notre offre de service

Domaines de recherche

Nous développons continuellement nos compétences dans nos domaines d'expertise et nous nous préparons à relever les défis du futur pour nos clients:

Interopérabilité et standardisation

Nous participons à de nombreux groupes de travail pour la standardisation des échanges entre machines et les systèmes informatiques des usines:

• OPC UA au sein d'OPC Foundation
  • Groupe de travail "I4AAS"
  • Groupe de travail "Machine Tools (UMATI)"
  • Groupe de travail "UA for Machinery"
  • Groupe de travail "Asset management" (co-éditor)
  • Groupe de travail "Harmonization"
  • Groupe de travail "OPC UA Core"
• Au sein de SEMI
  • Contribution à l'élaboration des standards SEMI
  • Groupe de travail "GEM300"
  • Formations sur les normes SEMI

Projets collaboratifs

• OTPaaS de 2021 à 2025
  • Platform as a Service (PaaS) afin d'assurer la continuité entre les données du terrain et celles du domaine IT.
  • Travail sur la collecte de grands volumes de données à haute vitesse dans le cadre des usines semi-conducteur ainsi que sur l'extension des équipements semi-conducteur avec contextualisation des données.
  • Travail en partenariat notamment avec le CEA-LETI et le CEA-LIST.
• Productive 4.0 de 2017 à 2020
  • Travail sur l'évaluation de l'OPC UA pour le domaine des semi-conducteurs
  • Projet H2020 de l'ESCEL-JU
  • Preuves de concepts et démonstrations préparées pour le projet
  • Publications dans des conférences de l'IEEE
• OEDIPUS en 2017
  • Développement d'une passerelle OPC UA pour un robot collaboratif qui pourrait communiquer en Modbus. Solution intégrée à Siemens MindSphere.
  • Projet EIT Digital

Nous collaborons avec de nombreux partenaires

Des publications scientifiques

Nous publions régulièrement des articles dans des conférences internationales sur nos travaux:

• "Towards building OPC-UA companions for semi-conductor domain" publié conjointement avec le CEA lors de la conférence IEEE Emerging Technologies and Factory Automation (ETFA) 2019
• "Multi-level modeling to OPC UA for migrating to Industry 4.0 in semiconductor manufacturing" publié conjointement avec le CEA lors de la conférence IEEE Industrial Cyberphysical Systems (ICPS) 2020
• "An industrial feedback on the use of OPC UA for the vertical integration of semiconductor front-ends" publié lors de la conférence IEEE Emerging Technologies and Factory Automation (ETFA) 2021